某半导体芯片制作中小企业因晶圆家电清洗工艺行成含氨废水净化处理工艺，的水量200吨/天。废水净化处理工艺中除挥发酚外还含氟化物和进样器巨资属，净化处理关卡大。本市直接排放标准的请求单位请求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废渣材料及起源 晶圆除垢焦化废水（基本来自）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工艺污水：含少量铜、镍等血本属，pH值起伏较大大 CMP粉磨工业废水：含硅科粒及挥发酚 治理艺具体流程 运用"普通机械沉淀出的+膜溶合+折点氯化"组成生产工艺： 预进行处理 ：添加CaCl2除氟，控住pH在7.5-8. 反渗透装置体统 ：洗去0.01μm以上内容顆粒物 反融于原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 ：将氧化还原电位浓缩液至1000mg/L上述 折点氯化 ：准确度把控好氯加药系统量，将氯离子应用为N2 正离子对换 ：切实保障血本属达到 从而目的 挥发酚安全稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属量降到测试限 水回收率达75% 废水诞生量降低40%